中国商務大臣、米国が第三国を通じて国際リソグラフィー輸出に「干渉」していることに不満…

中国の王文濤商務部長は先日、ジーナ・ライモンド米商務長官に対し、米国が中国への先端リソグラフィー装置の輸出制限を課していることについて深刻な懸念を表明した。ロイター通信によると、この電話会談では、中国への半導体技術輸出をめぐる米中間の緊張の高まりが浮き彫りになっただけでなく、人工知能（AI）技術の開発や国家安全保障と経済協力のバランスといった問題にも触れられた。

王文涛氏の主な懸念は、日本やオランダといった第三国による中国への先端リソグラフィー装置の輸出を禁じる米国の規制に集中していた。米国の影響を受けたオランダ政府は最近、ASMLが中国の顧客に先端深紫外線（DUV）リソグラフィー装置「Twinscan NXT: 2050i」および「2100i」を出荷することを許可していた輸出許可を取り消した。現時点では、これらの装置を現実的に使用できるのは国際中芯集成電路製造（SMIC）のみであるため、この決定は中国の半導体産業全体に大きな影響を与えていない。しかし、この規制はSMICのより高度なプロセス技術（つまり7nmノード未満）の開発能力に影響を与え、他の中国半導体メーカーの開発の可能性を阻害することになる。