中国は重要なリソグラフィ用チップ製造ツールのわずか1%しか生産しておらず、米国の厳しい制裁にさらされている。国内ツールメーカーへの投資は、この傾向を逆転させようとしている。

中国は世界の半導体製造を支配しようとしていますが、国内生産率の低さという厳しい現実によってその野望は打ち砕かれています。日経新聞のグラフによると、中国国内の半導体製造装置メーカーは国内の半導体製造装置全体の20%を生産していますが、極めて重要なリソグラフィー装置の生産率はわずか1%に過ぎません。これは、中国が半導体製造需要を自給自足で満たすためには、国内の半導体製造装置メーカーへの投資をさらに拡大する必要があることを意味します。

「現場（半導体製造企業や装置メーカー）は途方に暮れているが、それを口に出すのは難しい」と、日本総合研究所の主任研究員である三浦雄二氏は日経の記事で述べている。

日経新聞が経済産業省、中国商工研究院、半導体産業協会、ボストン・コンサルティング・グループのデータを基にまとめたデータによると、中国の半導体製造装置の国産化率は約20%で、その中で重要な露光・現像装置（フォトリソグラフィー）は1%未満に過ぎない。以下のツイートを拡大すると、集計データの機械翻訳版が表示される。

これらの数字は、中国の半導体産業がいかに外部要因に翻弄されているかを示している。米国が中国の先端技術へのアクセスを阻止する動きを見せていることから、中国政府は目標達成に数年、あるいは数十年かかる可能性が高く、その目標達成は困難だろう。米国の措置には、ASMLによる中国国内の一部ハイエンド半導体製造装置のサービス提供禁止も含まれており、中国における先端半導体の生産が停止する可能性がある。

それでも、習近平国家主席は、中国独自の技術開発にASMLは必要ないと述べています。中国は国内半導体産業の発展に数十億ドルを投じており、Naura TechnologyやAMECといった企業がリソグラフィー装置に投資することで、中国がASMLへの依存から脱却できるよう支援しています。

しかし、米国が中国に対して課している禁止措置、制裁措置、関税にもかかわらず、中国は国内半導体産業を着実に育成し続けています。中国の趙信は2024年3月に国産CPU「KX-7000」をリリースしました。性能は2018年のIntelおよびAMD製チップと同等ですが、KX-7000は前身のKX-6000の2倍の性能を誇ります。ファーウェイもまた、独自のKirin 9000Cプロセッサを導入することで、米国による第12世代Intel CPUへのアクセス禁止を回避する方法を見つけました。

中国が西側諸国の制裁を回避するもう一つの方法は、古くて成熟した技術基盤でイノベーションを起こすことです。例えば、ファーウェイがEUV技術を使わずに7nmチップを量産したことは、多くの世界の大手半導体企業を驚かせました。中国企業は、RISC-Vのような、一部の人が見落としがちなオープンスタンダード技術に注力することもできます。オープンスタンダードは誰でもアクセスして利用できるため、米国が中国企業による技術利用を法的に阻止するのは困難でしょう。

一方、北京は西側諸国に追いつくために、半導体生産能力に資金と人材を投入し続ける必要がある。奇跡的に米国の制裁を阻止するか、国内の半導体製造能力を一夜にして強化しない限り、北京の半導体世界市場における優位性は夢物語のままだろう。

ジョウィ・モラレスは、長年のテクノロジー業界での実務経験を持つテクノロジー愛好家です。2021年から複数のテクノロジー系出版物に寄稿しており、特にテクノロジー系ハードウェアとコンシューマーエレクトロニクスに興味を持っています。