中国企業はASMLとツァイスから3倍の高給で人材を引き抜いた。制裁下で半導体製造装置の設計・製造に必要な人材だ。

中国企業が独自の半導体製造装置を開発する上で直面する課題の一つは、ハイエンドリソグラフィーや光学といった分野における経験豊富な専門家の不足です。ウォール・ストリート・ジャーナルの報道によると、ファーウェイをはじめとする中国企業は最高の人材を求めており、ASMLやZeiss SMTから世界トップクラスの知識と経験と引き換えに多額の報酬を提示し、積極的に人材を採用しています。 

ファーウェイは、ASMLのリソグラフィー装置向け光学部品を製造しているドイツのツァイスSMTの従業員に対し、最大3倍の給与を提示した。このことは、米国、欧州、アジアで知的財産の窃盗と国家安全保障上のリスクに関する深刻な懸念を引き起こし、調査と規制措置につながった。ツァイスの従業員が機密技術情報の漏洩を懸念し、この行為を報告したことを受け、ドイツ情報機関は捜査を開始した。ファーウェイは、半導体製造用レーザー増幅器を開発するトルンプフなど、他のドイツ企業も標的にしていたことが判明した。 

2年前、米国政府は、米国市民とグリーンカード保持者に対し、中国の半導体業界で特定製品に従事する場合、ライセンスの申請を義務付けました。これにより、AMEC、Huawei、そしてNaura（独自のリソグラフィー装置の開発を開始したと報じられている）といった、中国の半導体製造装置技術力向上に特に貢献している企業から人材流出が発生しました。その結果、中国企業は欧州での人材獲得を加速させています。ASMLとそのサプライヤー（Zeissを含む）が主要なターゲットとなっています。Huaweiをはじめとする中国企業は、高度な光学技術やリソグラフィーの専門知識を持つ数十人のエンジニアを採用しており、中には中国企業に企業秘密を持ち込んだ者もいると報じられています。 

台湾、韓国、米国などの国々は、こうした人材引き抜きに対抗する措置を講じています。台湾は2020年以降、約90件の人材引き抜き事件を調査し、重要な半導体技術の漏洩に対し、最長12年の懲役を含む厳しい罰則を科しました。韓国は、中国企業による機密技術の複製を支援した元従業員を標的とした、無許可の技術移転に対する罰則を強化しています（ただし、罰則自体はそれほど厳しくありません）。 

多くのエンジニアは、評判リスクや企業文化への懸念からこうしたオファーを断りますが、中には受け入れる者もおり、貴重な専門知識や企業秘密を譲渡されるケースも少なくありません。ウォール・ストリート・ジャーナルによると、カリフォルニアに拠点を置くフェムトメトリックスの従業員3名が退職し、その後データ盗難に遭ったことで、同社はほぼ破綻寸前でした。