先月末、オランダ政府はASMLの先進的な液浸リソグラフィー装置の中国への販売を制限しました。しかし、ASMLはオランダ政府と米国政府からさらなるハイテク輸出規制に直面しているようです。ブルームバーグが関係筋を引用して報じたところによると、新たな規制により、ASMLが中国で既存の生産装置を修理する能力が制限される可能性があります。
オランダの今後の輸出管理規則により、ASMLは、中国の顧客が既に使用しているドライリソグラフィー装置および液浸リソグラフィー装置のサービス、修理、および部品供給を行うために、オランダ政府の許可を取得することが義務付けられます。サービス、修理、およびスペアパーツは、ASMLの重要な収入源です。同社はこれまで、現場での装置サービスにより、売上高の27%に相当する約57億4,300万ドルの収益を上げてきました。
適切なサービスと修理がなければ、製造装置は故障し、セミコンダクター・マニュファクチャリング・インターナショナル（SMIC）のような企業にとって、新規装置の不足以上に大きな打撃となる可能性があります。既存の注文を全く、あるいは期日通りに処理できなくなる可能性もあります。
さらに、米国は、ASMLが米国の輸出許可を得ずに中国の6つのファブに旧型のウエハ製造装置を販売することを禁止する制限を課すと予想されています。ブルームバーグによると、対象となるファブの1つにはSMICが運営する工場が含まれています。バイデン政権は、外国直接製品規則（FDIR）を通じてこの新たな制限を施行し、製品に米国製部品が含まれている外国サプライヤーからの販売を制限すると予想されています。
これらの二重の制限は、2022年10月に米国政府が中国半導体企業の競争力を徐々に弱体化させることを目的として導入した広範な輸出規制に追加されたものです。その後、日本政府とオランダ政府も同様の制限を課しました。当然のことながら、これらの制限は米国、日本、オランダのウエハ製造装置メーカーにも影響を与えました。
9月1日に発効予定のオランダの輸出規制では、Twinscan NXT:2000iやより高度なスキャナーを中国企業に販売するには輸出ライセンスの取得が義務付けられます。これらのスキャナーは深紫外線（DUV）リソグラフィーを採用し、7nmおよび5nmクラスのプロセス技術を用いたチップの製造が可能です。中国政府はこの新規則に憤慨しましたが、それには理由があります。
「オランダの規制は、オランダが中国による最先端半導体の生産を望まないという公式の姿勢を示すものだ」と、調査会社セミアナリシスの創設者ディラン・パテル氏は述べた。「これらの装置へのアクセスがなければ、中国の半導体企業は、先端ロジックやメモリチップの世界市場で大きな不利を被ることになるだろう。」
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パテル氏は、新たな規制が中国の半導体企業の将来計画に大きな影響を与え、将来の最先端プロセス技術の遅延や中止につながる可能性があると予測している。
アントン・シロフはTom's Hardwareの寄稿ライターです。過去数十年にわたり、CPUやGPUからスーパーコンピュータ、最新のプロセス技術や最新の製造ツールからハイテク業界のトレンドまで、あらゆる分野をカバーしてきました。
